. r; C Y' E0 L, O) U
1 e8 }1 ?2 a+ I) B' N( y反转显影reverse developing
' y/ T1 Q$ ?. O2 i / T3 z# v+ K: d! P2 x8 X
反转显影俗称正拷正工艺。在照相雕刻时由描样片直接拷贝出正连晒片的方法。描样片与感光胶片叠加曝光显影后，无花纹遮盖处胶片上的溴化银被还原成银粒组成负像，花纹遮盖处胶片上的溴化银组成潜在的正像。常规的冲洗是用还原剂大苏打溶液洗去未曝光之溴化银潜像，留下银粒组成负像；反转显影则使用重铬酸钾或高锰酸钾等氧化剂溶液处理洗去组成正像的银粒，留下组成潜在正像的溴化银，再经曝光、显影、定影而得到与描样片一致的正像，目的在于节约胶片。 8 A- T! }5 B0 {! F# f: y% u9 h9 n
$ v* Q; @* l8 {' W, e" Q正拷正工艺reverse
7 ]8 r% }2 L( C- O1 E4 i2 B& V% ^4 @
$ `- g: A7 |3 S+ V
- y5 r- F- o3 a2 {" g, |$ J; M0 @! m
|
京公网安备11010502056754号 )
发表于 2015-4-1 11:44:21
